加碳純化裝置

工作原理

加碳純化裝置喺適當溫度下以碳催化劑將餘氧氧化為 CO2( C + O2 → CO2),再經 PSA 變壓吸附深度去除 CO2同水分,並配合精過濾清除顆粒雜質,可穩定獲得 ≥ 99.9995 % 高純氮、殘氧 ≤ 5 ppm 且出口唔含氫;裝置按產氮量1.1倍配置、以 ≈ 99.9 % 原料氮進料,催化劑為消耗型定期補加,無需氫氣源,整體運行成本更理想,適配半導體、電子、激光加工同金屬熱處理等對殘氧極敏感嘅工況。

技術參數

氮氣產量:10~ 800Nm/h      氮氣純度: ≥ 99.9995 %

 二氧化碳含量: ≤ 5PPm       壓力降:0.1Mpa

氧含量: ≤ 5PPm                   氮氣常壓露點: -60 ° C

產品特點

  • 高效碳催化脫氧:喺適當溫度將餘氧氧化成 CO₂,工藝成熟穩定,輸出高純氮(可達 5N 級),而且成品氮唔含氫,適用於對氫/氧嚴格受控嘅場景。

  • 耐高溫結構:脫氧器、加熱器採用耐高溫材質雙加熱器一用一備,溫度穩定、可靠性高。

  • 節能預熱回收:新增預熱器回收脫氧後氮氣嘅顯熱,整體能耗可降 ≥30%

  • 深度純化鏈路:PSA/吸附式乾燥機深度除 CO₂ 及脫水吸附容量大、週期長、能耗低;末端精過濾去顆粒雜質。

  • 不停機維護雙脫氧塔一用一備,連續運行期間可直接補加碳催化劑;催化劑用完無雜質粉末殘留、無需吹掃

  • 控制與安全德國 Siemens PLC 控制,配自動聯鎖放空同多重故障報警,運行更安全、可視化更好。

工藝流程

規格參數

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